华瑛微电子取得晶圆表面局部处理方法专利
金融界2025年3月12日消息,国家知识产权局信息显示,无锡华瑛微电子技术有限公司取得一项名为“晶圆表面局部处理方法”的专利,授权公告号 CN 114914155 B,申请日期为2022年5月。
天眼查资料显示,无锡华瑛微电子技术有限公司,成立于2008年,位于无锡市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1663.856万人民币,实缴资本1444.528万人民币。通过天眼查大数据分析,无锡华瑛微电子技术有限公司参与招投标项目30次,财产线索方面有商标信息2条,专利信息134条,此外企业还拥有行政许可13个。
来源:金融界
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